به جمع مشترکان مگیران بپیوندید!

تنها با پرداخت 70 هزارتومان حق اشتراک سالانه به متن مقالات دسترسی داشته باشید و 100 مقاله را بدون هزینه دیگری دریافت کنید.

برای پرداخت حق اشتراک اگر عضو هستید وارد شوید در غیر این صورت حساب کاربری جدید ایجاد کنید

عضویت

جستجوی مقالات مرتبط با کلیدواژه « Multilayer coating » در نشریات گروه « مکانیک »

تکرار جستجوی کلیدواژه « Multilayer coating » در نشریات گروه « فنی و مهندسی »
  • غلامرضا فغانی*
    پوشش های چند لایه نیتریدی ایجاد شده توسط رسوب فیزیکی بخار (PVD) روند خوبی در بهبود مقاومت به خوردگی نشان داده اند. در این تحقیق، عملکرد خوردگی پوشش های چند لایه Ti/TiN با ضخامت حدود 1.5 میکرون که توسط کندوپاش مگنترونی خلا بالا بر روی    زیر لایه آلیاژ آلومینیم 7075 ایجاد شدند، بررسی شد. وجود فاز های TiN، TiOxNy و TiO2 توسط آنالیز XPS در مقطع جانبی پوشش های چندلایه تایید شد. یکنواختی سطح پوشش ها به همراه ایجاد سطحی چقرمه با دانه های ریز با استفاده از میکروسکوپ FESEM و زبری سطح 142 آنگستروم با میکروسکوپ AFM تایید شد. نتایج آزمون امپدانس الکتروشیمیایی (EIS) رفتار مطلوب خوردگی پوشش های چندلایه ای  Ti/TiN را اثبات نمود. بازه تغییرات مقاومتی برای نمونه های پوشش داده شده، بین  808.5 تا  1984 بود که در مقایسه با نمونه بدون پوشش با مقدار  84.3، افزایش چشم گیر مقاومت به خوردگی بین 23-9.6 برابری را نشان داد.
    کلید واژگان: رسوب فیزیکی بخار, پوشش چندلایه, مقاومت به خوردگی, آلیاژ آلومینیم 7075}
    Golamreza Faghani *
    Nitride multilayer coatings created by Physical Vapor Deposition (PVD) method has shown a good trend in improving corrosion resistance. In this research, corrosion performance of Ti/TiN multilayer coatings with 1.5 µm in thickness which created by High Vacuum Magnetron Sputtering on 7075 Aluminum Alloy substrate was investigate.  Presence of TiN, TiOxNy and TiO2 phase in the cross-section of multilayer coatings was confirmed by XPS analysis. Creation of uniform coatings with tough surface with smooth grains by FESEM microscope and surface roughness of 142Å by AFM microscope was confirmed. Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS) results was proved desirable corrosion behavior of the Ti/TiN coatings. Resistance changes for coated samples was in range of 1984-808.5  witch in comparison with uncoated sample with 84.3 in resistance was shown remarkable increase in corrosion resistance between 9.6-23 times.
    Keywords: Physical Vapor Deposition, multilayer coating, corrosion resistance, 7075 Aluminum Alloy}
  • حسن امینی*، پروین قلیزاده، اسماعیل پورسعیدی

    وجود عیوب و تنش های پسماند سبب تضعیف مقاومت پوشش‎های چندلایه در مقابل رشد ترک می شود. برای بررسی این موضوع رشد ترک در دو ساختار لایه نشانی شده و ایده آل Ti/TiN با استفاده از شبیه سازی دینامیک مولکولی بررسی شده است. برای این منظور ابتدا لایه نشانی TiN بر روی بستر Ti انجام گرفته، سپس رشد ترک در دو ساختار مذکور بررسی گردیده است. رشد لایه TiN بر روی Ti جزیره ای بوده و ساختار لایه نشانی شده دارای عیوب و تنش پسماند می باشد. نتایج نشان داد که هر دو تنش پسماند صفحه ای و نرمال، در بستر و پوشش به ترتیب کششی و فشاری می باشد. با استفاده از تغییر انرژی در لایه ها انرژی چسبندگی فصل مشترک محاسبه شده است که برابر 166 کیلوژول بر مول می باشد. در قسمت دوم با جایگذاری ترکی به طول 15 آنگستروم در لایه سرامیک در دو ساختار ایده آل و لایه نشانی شده رفتار رشد ترک بررسی شده است. نتایج نشان داد به دلیل ترد بودن لایه سرامیک، در هر دو حالت ذکر شده ترک تا فصل مشترک لایه ها رشد می کند. در ادامه تغییرشکل پلاستیک لایه Ti و همچنین ساختار فصل مشترک بین دو لایه مانع از رشد ترک و شکست کامل می گردد. همچنین تنش بحرانی لازم برای رشد ترک در ساختار منظم 5/2 برابر مقدار آن در ساختار لایه نشانی شده است که دلیل آن وجود عیوب و تنش پسماند در ساختار لایه نشانی شده می باشد.

    کلید واژگان: پوشش چندلایه, دینامیک مولکولی, لایه نشانی, رشد ترک}
    Hassan Amini *, Parvin Gholizadeh, Esmaeil Poursaeidi

    The existence of defects and residual stresses in the multilayer coatings could reduce their crack resistance. By using the method of molecular dynamics (MD) simulation, the crack propagation behavior in deposited Ti/TiN bilayer is compared with its perfect structure. For this purpose, TiN was deposited on Ti substrate, then crack growth was investigated in the two structures. The growth of TiN film on Ti was island growth, and the structure has defects and residual stress. The results showed that both the biaxial and normal residual stresses in the substrate and film are tensile and compression, respectively. The cohesive energy of the interface was calculated by energy difference along the atomic layers. In the following, a crack was considered perpendicular to the Ti/TiN interface in both models, with an initial length of 15 Å. Due to the brittle behavior of the ceramic layer, crack propagates rapidly until interface. The plastic deformation of the Ti layer and the structure of the interface blunt the tip of the crack and prevents to fail. Also, the critical stress for crack growth in a regular structure is found to 2.5 times of its value in the layered structure because of defects and tension in the layered structure

    Keywords: Multilayer coating, Molecular dynamics, deposition, crack growth}
نکته
  • نتایج بر اساس تاریخ انتشار مرتب شده‌اند.
  • کلیدواژه مورد نظر شما تنها در فیلد کلیدواژگان مقالات جستجو شده‌است. به منظور حذف نتایج غیر مرتبط، جستجو تنها در مقالات مجلاتی انجام شده که با مجله ماخذ هم موضوع هستند.
  • در صورتی که می‌خواهید جستجو را در همه موضوعات و با شرایط دیگر تکرار کنید به صفحه جستجوی پیشرفته مجلات مراجعه کنید.
درخواست پشتیبانی - گزارش اشکال