مطالعه توپوگرافی و خواص ساختاری لایه های آمورف کربن نیکل با توزیع های متفاوت فلزی
در این مقاله خواص ساختاری لایه های آمورف کربن نیکل ساخته شده از هدف های گرافیتی با مقادیر مختلف نیکل از 87/1 تا 64/4 درصد مورد مطالعه قرار می گیرند. توپوگرافی در لایه های انباشت شده در 78/1، 21/3 و 64/4 درصد دارای یک افت و خیزی حول یک نانومتر ولی در لایه های انباشت شده در 92/3 درصد دارای افت وخیزی حول 20 پیکومتر است. لایه های انباشت شده در 92/3 درصد دارای کمترین مقدار سد پتانسیل در حدود 00031/. الکترون ولت است. این لایه ها همچنین دارای کمترین مقدار اندازه عرضی نانوذرات در حدود 40 نانومتر هستند. انباشت لایه ها دارای یک فرآیند گذار غیرفلز-فلز در 92/3 درصد است.
- حق عضویت دریافتی صرف حمایت از نشریات عضو و نگهداری، تکمیل و توسعه مگیران میشود.
- پرداخت حق اشتراک و دانلود مقالات اجازه بازنشر آن در سایر رسانههای چاپی و دیجیتال را به کاربر نمیدهد.