مقایسه خواص مغناطیسی، اپتیکی و ریخت شناسی نانو کامپوزیت گرافن اکساید احیاشده با پوشش فریت روی سنتز شده به روش تک مرحله ای هیدروترمال و دو مرحله ای سل-ژل/هیدروترمال

نانوکامپوزیت گرافن اکساید احیاشده با پوشش فریت روی (ZnFe2O4@rGO) با موفقیت بوسیله روش تک مرحله ای HT و روش دومرحله ای SG/HT برای اولین بار سنتز گردید. نتایج حاصل از تصاویر SEM و TEM نشان دادند صفحه های گرافن اکساید ناشی از سنتزهای HT و SG/HT به ترتیب ابعادی در بازه های µm 0.3-0.04 و µm 0.7-0.07 دارند و همچنین پوشش نانو ذرات ZnFe2O4 را روی این صفحه های گرافن اکسایدی نشان دادند. با توجه به این تصاویر اندازه نانو ذرات ZnFe2O4 روی صفحه های گرافن اکساید برای سنتزهای HT و SG/HT به ترتیب در بازه های nm 10-40 و nm 25-70 مشاهده گردید. . از مقایسه مقادیر بدست آمده برای شکاف انرژی نمونه ها مشخص می شود مقدار شکاف انرژی در سنتز SG/HT حدود 7 درصد کمتر از سنتز HT است. نسبت ID/IG با توجه به طیف رامان مقدار 0.88 بدست آمد که بیانگر سنتز باکیفیت گرافن اکساید است. نتایج حاصل از طیف FTIR، احیا موثر GO و همچنین شکل گیری کامپوزیت بین صفحه های rGO و نانوذرات ZnFe2O4 را برای هر دو روش سنتزSG/HT و HT اثبات کرد. نتایج بدست آمده از بررسی خاصیت مغناطیسی VSM و آهنربا با شدت T 1، خاصیت سوپرپارامغناطیسی هر دو نمونه را اثبات کرد. با توجه به نتایج بدست آمده از این تحقیق می توان گفت برای کاربردهای درمانی به روش فوتوترمال روش تک مرحله ای HT، و برای کاربردهای فوتوکاتالیستی و عامل کنتراست در MRI که خاصیت فوتوکاتالیستی و مغناطیسی بالاتر مدنظر باشد روش دو مرحله ای SG/HT می تواند انتخاب مناسبتری باشد.