بهینه سازی پارامترهای موثر بر فرآیند پرداخت کاری ساینده مغناطیسی با استفاده از روش رویه پاسخ

فرآیند پرداختکاری ساینده مغناطیسی یکی از فرآیندهای نانو پرداختکاری است که به واسطه ی پایین بودن دمای گپ کاری آن، یک فرآیند سرد محسوب می شود. در این مقاله، اثر پارامترهای گپ کاری، سرعت دورانی قطعه کار و نوع ساینده در فرآیند پرداختکاری ساینده مغناطیسی بر زبری سطوح بیرونی قطعات استوانه ای از جنس فولاد زنگ نزن AISI 440C با استفاده از روش رویه پاسخ برای رسیدن به کمترین زبری سطح، مدلسازی و بهینه سازی شده است. با اجرای آزمایش ها میزان زبری سطح به عنوان تابع هدف انتخاب شده است. در مرحله بعد اثرات اصلی پارامترها بررسی شده و مدل رویه پاسخ تابع هدف به دست آمده است. درنهایت با استفاده از روش رویه پاسخ، مقادیر بهینه پارامترهای گپ کاری و سرعت دورانی قطعه کار به دست آمده است. نتایج بهینه سازی به کمک روش رویه پاسخ نشان می دهد که فرآیند با دقت خوبی مدلسازی شده و همچنین استفاده از مدل توسعه یافته میزان بهبود در زبری سطح پرداخت شده را به میزان 17.52 درصد افزایش داده است. در محدوده انتخابی برای پارامترهای گپ کاری، مینیم زبری قابل دستیابی متناظر با مقدار گپ کاری 1.98 میلی متر، سرعت دورانی قطعه کار 373.73 دور بر دقیقه و استفاده از ژل الماس به عنوان ابزار ساینده تحقق خواهد یافت. همچنین، بررسی پارامترها نشان می دهد که نوع ساینده موثرترین پارامتر در بهبود زبری سطح قطعات در فرایند پرداخت کاری ساینده مغناطیسی می باشد. علاوه بر این، نتایج میکروسکوپی بافت سطح نمونه ها، نشان می دهد که فرآیند پرداخت کاری ساینده مغناطیسی جهت و شیارهای ناشی از فرآیند سنگ زنی را به طور قابل توجهی از بین برده است و همچنین یک سطح پرداخت فوق صیقل و یکنواختی به مانند یک آینه تا محدوده 0.207 میکرومتر به دست آمده است.