سنتز و شناسایی نانوکامپوزیت جدید Co3O4/گرافن اکسید تثبیت شده بر چارچوب فلز-آلی UiO-66 و بررسی کاربرد فوتوکاتالیستی آن در تخریب آلاینده های تتراسایکلین و مالاتیون

امروزه حذف آلاینده های سمی از پسابها به عنوان یک موضوع بسیار مهم مورد بررسی قرار گرفته است. در این تحقیق، تتراسایکلین (TC) به عنوان یک آنتی بیوتیک مهم و مالاتیون به عنوان یک آفت کش ارگانوفسفره سمی برای تخریب فوتوکاتالیستی توسط یک نانوکامپوزیت با کارآیی بالا در نظر گرفته شدند. از روش آسان و موثر فراصوت جهت سنتز نانوکامپوزیت Co3O4/گرافن اکسید/چهارچوب آلی فلزی UiO-66 استفاده شد. محصولات به وسیله روش های پراش اشعه ایکس (XRD)، طیف سنجی زیر قرمز (FT-IR)، میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) و طیف سنجی UV- Vis مورد شناسایی قرار گرفتند. قابلیت نانوکامپوزیت سنتز شده در تخریب فوتوکاتالیستی آلاینده های تتراسایکلین و مالاتیون (ppm20) مورد ارزیابی قرار گرفت. نتایج نشان داد که حضور گرافن اکسید و UiO-66 باعث بهبود در خواص فوتوکاتالیستی Co3O4 شده و راندمان حذف تا 93% و 76% بترتیب برای تتراسایکلین و مالاتیون افزایش یافت. علاوه بر این، نتایج آنالیز کل کربن آلی (TOC) تخریب فوتوکاتالیستی این آلاینده ها را تایید کرد. در این مطالعه اثر دوز مصرفی Co3O4/گرافن اکسید و pH اولیه از محلول بر خواص فوتوکاتالیستی مورد بررسی قرار گرفت.