مشخصات غلاف در یک پلاسمای مغناطیده برخوردی مشتمل بر الکترو ن های نافزونور و یون های حرارتی

در این مقاله، تشکیل غلاف و ویژگی های آن در یک پلاسمای مغناطیده برخوردی شامل الکترو ن های نافزونور و یون های حرارتی مورد مطالعه قرار می گیرد. با استفاده از مدل سیالی، معیار بوهم به صورت تابعی از پارامترهای پلاسما برای سرعت یون ها به دست آمده و نشان داده می شود که برخورد یون-خنثی حد (کران) بالایی برای معیار بوهم تحمیل می کند. همچنین نشان داده می شود که انحراف از توزیع ماکسولی مشخصه های غلاف را تحت تاثیر قرار می دهد. به علاوه، اثرات میدان مغناطیسی، دمای یونی، نافزونوری و بسامد برخورد یون- خنثی بر پتانسیل غلاف و چگالی یون بررسی می شود. نتایج به دست آمده نشان می دهند که با اعمال میدان مغناطیسی می توان ضخامت غلاف را کنترل کرد