بهینه سازی خواص تشعشعی بهینه نانو مقیاس در محدوده نوری مرئی، فروسرخ و فرابنفش با الگوریتم ازدحام ذرات

لایه ی نازک به لایه ای از مواد گویند که دارای ضخامت نانومتری تا محدوده چندین میکرومتر می باشد. این لایه بر روی سطح قطعات و مواد دیگر قرار گرفته و به آنها خصوصیت ویژه و جدیدی را می بخشد. خواص لایه های نازک، نظیر خواص مکانیکی، نوری، الکتریکی و غیره به پارامترهای زیادی وابسته است که این پارامترها مربوط به روش تولید، کیفیت و نوع ماده ی زیر لایه خواهند بود. با توجه به عملکرد و خواص لایه های نازک، می توان از آنها جهت بهبود تکنولوژی هایی نظیر سلول های خورشیدی، سنسورها، کاربردهای نوری، مهندسی الکترونیک و فروالکترونیک نیز استفاده نمود و امروزه کاربرد لایه نشانی در صنایع، موضوع توسعه یافته ای است، به گونه ای که بخش بزرگی از زندگی مدرن را مدیون توسعه صنعت لایه نشانی می دانند. در پژوهش پیش رو خواص تشعشعی طیفی، جهتی و وابسته به دما از قبیل ضریب بازتاب، ضریب عبور و ضریب گسیل  برای نانو پوشش ها شامل سیلیکون، دی اکسید سیلیسیم، نیترات سیلیسیم مورد بحث و بررسی قرار می گیرد و با استفاده از الگوریتم ازدحام ذرات به دنبال جواب بهینه برای این ضرایب در محدوده نوری مریی، فروسرخ و فرابنفش می باشد، بدین صورت که این الگوریتم با انتخاب مناسب ترین ترکیب از جنس، تعداد و ضخامت لایه، بهترین خواص تشعشعی را در طیف کامل نوری نتیجه خواهد داد.