جستجوی مقالات مرتبط با کلیدواژه « رسوب دهی الکتروشیمیایی پالسی » در نشریات گروه « مواد و متالورژی »
تکرار جستجوی کلیدواژه «رسوب دهی الکتروشیمیایی پالسی» در نشریات گروه «فنی و مهندسی»-
مجله مهندسی متالورژی، پیاپی 79 (پاییز 1399)، صص 245 -254
در این پژوهش تاثیر تغییر فرکانس پوشش دهی از 2500 به 5000 هرتز در سیکل کاری ثابت 60% بر ترکیب و مورفولوژی سطح پوشش لایه نازک آلیاژ آنتروپی بالای CoCrFeMnNi که به روش رسوب دهی الکتروشیمیایی پالسی سنتز شده، مورد بررسی قرار گرفته است. پوشش آلیاژی از یک حمام کلریدی با حلال آلی دی متیل فرم آمید و استونیتریل، بر روی زیر لایه ی مسی، حاصل شده است. تغییرات ریزساختار، ترکیب شیمیایی و مورفولوژی پوشش ها به ترتیب به کمک پراش پرتو ایکس لایه های نازک (GXRD)، طیف سنجی پراش انرژی پرتو ایکس (EDS) و میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) مورد بررسی قرار گرفته است. نتایج حاصل از آنالیز EDS نشان داد که تمامی عناصر با موفقیت بر روی زیر لایه مسی رسوب داده شده و با تغییر فرکانس اعمالی (2500 به 5000 هرتز) در سیکل کاری ثابت 60 درصد، ترکیب شیمیایی تغییر کرده است؛ در هر دو حالت آنتروپی اختلاط در حدود J/Kmol 12، در محدوده تشکیل آلیاژ آنتروپی بالا، بوده است. نتایج حاصل از آنالیز GXRD، تشکیل ساختار محلول جامد با شبکه FCC را تایید نمود. در سطح پوشش ایجاد شده در فرکانس 2500 هرتز ذرات به صورت غیر کروی و آگلومره بوده و اندازه کریستالیت ها در حدود 217 نانومتر محاسبه شده است. مورفولوژی پوشش ایجاد شده در فرکانس 5000 هرتز دارای ترک های شاخه ای، برآمدگی ها و تاول های هیدروژنی و همچنین ذرات غیر کروی در سطح پوشش بوده و اندازه کریستالیت ها در حدود 109 نانومتر اندازه گیری شده است.
کلید واژگان: آلیاژ آنتروپی بالا, پوشش لایه نازک, رسوب دهی الکتروشیمیایی پالسی, حمام کلریدی, حلال آلی}Journal of Iranian Metallurgical and Materials Engineering Society, Volume:23 Issue: 79, 2021, PP 245 -254In this study, the effect of frequency changes from 2500 to 5000 Hz in a %60 constant duty cycle on the composition and surface morphology of CoCrFeMnNi thin film alloy coating surface, synthesized by pulsed electrochemical deposition method, was investigated. Alloy coatings were obtained from chloride bath with organic solvent dimethylformamide (N, N-dimethylformamide) and acetonitrile on a Cu substrate. Microstructure changes, chemical composition and morphology of the coatings were investigated by thin-layer X-ray diffraction (GXRD), X-ray energy diffraction (EDS) and scanning electron microscopy (SEM), respectively. The results of EDS analysis showed that all the elements were successfully deposited on the copper substrate and the chemical composition changed by changing the applied frequency (2500 to 5000 Hz) at a %60 constant duty cycle; in both cases the mixing entropy was about 12 J/K.mol, in the range of high entropy alloy formation. The results of GXRD analysis confirmed the formation of FCC single phase solid solution structure. At the surface of the coating created at a frequency of 2500 Hz, the particles were spherical and agglomerated and the size of the crystallite was calculated at about 217 nm. The morphology of the deposited coat at 5000 Hz has cracks and hydrogen blisters as well as spherical particles on the surface, and the crystallite size was measured at about 109 nm.
Keywords: High entropy alloy, Thin film coating, Pulse electrochemical deposition, Chloride bath, Organic solvent} -
در این تحقیق، نتایج تاثیر چرخه کاری بر مقاومت به خوردگی و پوشش نانو کامپوزیتی نیکل- مس- اکسید سریم (Ni-Cu-CeO2) از آبکاری به روش رسوب دهی الکتروشیمیایی پالسی ارائه شد. پوشش نانو کامپوزیتیNi-Cu-CeO2 از طریق رسوب همزمان نانو ذات اکسید سریم با اندازه میانگین ذرات 10 تا 30 محصول شرکت لیفلان آمریکا با درجه خلوص 97/99 درصد و ساختار کریستالی سریا (ceria) در زمینه نیکل - مس در طی مدت زمان فرایند آبکاری بدست آمد. میانگین اندازه ضخامت پوشش نانو کامپوزیتی بر روی زیر لایه ی فولادی کم کربن از جنس ورق 37.st، mμ 26 بدست آمد. مورفولوژی سطح و ترکیب پوشش ها توسط میکروسکوپ الکترونی گسیل میدانی (FESEM) مجهز به دستگاه آنالیز EDX مورد بررسی قرار گرفت. مشاهده شد که مورفولوژی سطح پوشش نانو کامپوزیتی Ni-Cu-CeO2، هموارتر و متراکم تر، همراه با ساختار ریز و نانو ذرات اکسید سریم به صورت یکنواخت در زمینه نیکل - مس پوشش توزیع شده اند. رفتار الکتروشیمیایی پوشش ها در محلول 3.5 درصد NaCl در دمای°C 25 توسط پلاریزاسیون پتانسیودینامیک و طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی مورد مطالعه قرار گرفت. نتایج آزمون پلاریزاسیون نشان داد که با افزایش چرخه کاری، جریان خوردگی افزایش یافته و پتانسیل خوردگی به مقادیر با پتانسیل منفی تر میل می کند. در نتیجه منجر به کاهش مقاومت به خوردگی پوشش می شود. همچنین نتایج آنالیز EDX نشان داد که با افزایش چرخه کاری میزان نانو ذرات در پوشش کاهش پیدا می کند.
کلید واژگان: رسوب دهی الکتروشیمیایی پالسی, پوشش نانو کامپوزیتی Ni, Cu, CeO2, چرخه کاری, مقاومت به خوردگی, امپدانس}
- نتایج بر اساس تاریخ انتشار مرتب شده‌اند.
- کلیدواژه مورد نظر شما تنها در فیلد کلیدواژگان مقالات جستجو شده‌است. به منظور حذف نتایج غیر مرتبط، جستجو تنها در مقالات مجلاتی انجام شده که با مجله ماخذ هم موضوع هستند.
- در صورتی که می‌خواهید جستجو را در همه موضوعات و با شرایط دیگر تکرار کنید به صفحه جستجوی پیشرفته مجلات مراجعه کنید.
©2000-2024 magiran.com All Rights Reserved.