جستجوی مقالات مرتبط با کلیدواژه « Sputtering » در نشریات گروه « مواد و متالورژی »
تکرار جستجوی کلیدواژه «Sputtering» در نشریات گروه «فنی و مهندسی»-
In this work, the bilayer NiO/Fe thin films compared with single-layer Fe film were deposited on Si (100) substrate using the sputtering technique at deposition angles of 0° and 31.5°. Structure, the static magnetic properties, and the temperature dependence of the dynamic magnetic properties in the range from 300 K to 420 K have been investigated. The results show that the nanocrystalline BCC phase of Fe with the average crystallite size of 11-12 nm and (110) preferred orientation is formed during the deposition process. The resonance frequency is found to rise from 1.03 GHz to 1.13 GHz by employing the NiO sublayer for the typically deposited Fe film. Moreover, the resonance frequency increases for the NiO/Fe films from 1.13 GHz to 1.67 GHz as the deposition angle increases from 0° and 31.5° as a result of the increase in the magnetic anisotropy from 16 Oe to 45 Oe. The permeability values decrease for both as-deposited films with increasing temperature; however, the higher values of the permeability are observed for the film obtained at a deposition angle of 31.5°.Keywords: Thin films, Sputtering, Magnetic anisotropy, NiO, Fe Film, Ferromagnetic resonance frequency}
-
Nanoporous BiVO4 thin films were deposited on fused silica substrate using reactive magnetron sputtering. The effect of annealing temperature on the microstructure, morphology and optical properties was evaluated. The samples were characterized by X-ray diffraction (XRD), field-emission scanning electron microscopy (FESEM), energy dispersive spectroscopy (EDS), ultraviolet-visible spectroscopy (UV-Vis) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). XPS demonstrated the Bi+3 and V+5 oxidation states, as well as the adsorbed and lattice oxygen on the film surface. The as-deposited films proved to be amorphous by the XRD results, while the pure monoclinic scheelite BiVO4 crystal structure was obtained after a post-annealing treatment at 300 and 450 ℃. FESEM images displayed a uniform surface with no grain boundaries for the as-deposited film, whereas nanopores with an average diameter of 20˗40 nm were observable in the film annealed at 450 ℃ as opposed to the film annealed at 300 ℃ with a dense and cracked surface. The association of nanoporosity with the efficiency of visible-light absorption was demonstrated by the UV-Vis spectrophotometry results with the narrowest bandgap (2.5 eV) concerning the film annealed at 450 ℃. The photocatalytic experiment under visible light showed an 80 % photodegradation of Rhodamine-B solution after 7 h, and the recycling experiment proved the stability of the thin films after three cycles. These results show the great potential of BiVO4 thin films deposited by reactive magnetron sputtering in photocatalytic wastewater treatment applications.Keywords: Sputtering, BiVO4, Thin Film, Photocatalysis, Spectroscopy}
-
لایه های نازک اکسیدروی خالص [1] و آلایش یافته با مس [2] توسط کندوپاش مغناطیسی فرکانس رادیویی [3] تهیه شد. ویژگی‌های ساختاری و اپتیکی این لایه های نازک به کمک تکنیک های مشخصه یابی پراش اشعه ایکس [4] ، میکروسکوپ نیروی اتمی [5] ، طیف سنج نوری [6] ، فوتولومینسانس [7] مورد بررسی قرار گرفت. لایه های نازک اکسیدروی نقص‌های کریستالی و میکرو تنش‌های را در شبکه کریستالی نشان دادند. بازپخت لایه اکسیدروی آلایش یافته با مس3 اندازه کریستالی را در جهت بلوری (002) افزایش داد . پارامتر شبکه c در ساختار هگزاگنال به دلیل تطبیق اتم های مس در موقعیت های تعادلی کاهش یافت. بازپخت لایه اکسیدروی آلایش یافته با مس 3 شدت پیک فوتولومینسانس8 را افزایش داد و آلایش مس در ساختار کریستالی لایه های نازک اکسیدروی باعث ایجاد نشر نور سبز در 530 نانومتر گردید.
کلید واژگان: لایه نازک اکسیدروی, لایه نازک اکسیدروی آلایش یافته با مس, کندوپاش, بازپخت}ZnO and Cu doped[1] (CZO) thin films were prepared by radio frequency sputtering. The structural and optical properties of thin films were investigated using X-ray diffraction (XRD), atomic force microscopy (AFM), optical spectrophotometer, and photoluminescence (PL) techniques. ZnO thin films showed crystalline and micro-stress defects in the crystal lattice. Annealing of CZO thin films increased the crystal size in the crystalline direction (002). The c lattice parameter decreased due to the matching of copper atoms in equilibrium positions. Also, the peak intensity of PL CZO thin films increased by annealing and Cu doping of ZnO thin films caused the emission of green light at 530 nm
Keywords: ZnO thin films, CZO thin films, Sputtering, Annealing} -
Nickel oxide (NiO) thin film is metal oxide that has attracted much attention in recent years due to its environment friendliness. In addition, by doping impurities such as copper (Cu) in NiO films the properties of prepared films can be changed. In this study, Cu:NiO thin films were deposited on silicon substrates by RF reactive magnetron sputtering. Then the deposited films were annealed at different temperatures of 200-600 °C. X-ray diffraction (XRD) results showed that all the prepared films were amorphous and the structural properties of films didn’t vary by annealing temperature. Also, atomic force microscopy (AFM) images demonstrated that the surface morphology of the films was affected by annealing temperature. The root mean square (Rms) roughness and average roughness (Ra) values were obtained from AFM observations. FTIR analysis shows the peaks in the wavenumber of 528 cm-1 and 742 cm-1 which are related to Ni-O stretching mode and Cu-O bond bending vibrations.
Keywords: Sputtering, Cu, Nickel oxide, Thin films, FTIR} -
Nanostructured molybdenum trioxide (MoO3) films as environmental friendly materials can be used in various filed such as electrochemical energy storage devices, rechargeable batteries and gas sensors. In this work, nanostructured MoO3 thin films were successfully grown on quartz substrates by two-step method. In the first step, molybdenum films were deposited on quartz substrates by DC magnetron sputtering technique. Then the plasma oxidation of molybdenum films was used to prepare molybdenum oxide. The effect of plasma oxidation power and thermal annealing on the structural, morphological and optical properties of the MoO3 films were investigated by different analysis including XRD, AFM, RBS and spectrophotometry. XRD results indicated that the plasma powers effectively influenced the structure of films. The RBS analysis confirmed the presence of Mo and O elements. The AFM images showed that an increment of plasma power leads to decrease the roughness of films and annealing effectively changed the morphology of films. Furthermore, the optical transmittance decreases by increment of the plasma oxidation powers.
Keywords: MoO3, Plasma Oxidation, Thin Film, Sputtering, Nanostructure} -
پیل های سوختی غشا پلیمری به دلیل مزایایی همچون دمای عملکرد پایین، چگالی توان بالا و زمان راه اندازی پایین، نسبت به دیگر پیل های سوختی بیشتر مورد توجه قرار گرفته است. یکی از مهم ترین اجزای پیل سوختی پلیمری صفحات دوقطبی می باشد که شامل انواع مختلفی است. صفحات دوقطبی فلزی نسبت به صفحات دو قطبی کامپوزیتی پایه گرافیتی از مزایایی همچون استحکام بالا و ضخامت و وزن پایین تر برخوردارند. مقاومت به خوردگی و مقاومت تماسی بین سطوح صفحات دوقطبی فلزی یکی از چالش های صفحات دوقطبی فلزی می باشد. به همین دلیل، صفحات دوقطبی فلزی برای افزایش مقاومت به خوردگی و کاهش مقاومت تماسی تحت فرآیند پوشش دهی قرار می گیرند. در این پژوهش، خواص و مورفولوژی پوشش طلا روی زیرلایه مسی و فولاد زنگ نزن با استفاده از روش های آبکاری الکتریکی و اسپاترینگ مورد مطالعه قرار گرفت. بررسی مورفولوژی سطح نمونه ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی صورت گرفت. همچنین، به منظور بررسی مقاومت تماسی نمونه های پوشش داده شده و بدون پوشش، از آزمون مقاومت تماسی بین سطوح استفاده شد. مقاومت به خوردگی پوشش های اعمال شده با استفاده از آزمون های گالوانواستاتیک و پتانسیواستاتیک مورد مطالعه قرار گرفت. نتایج بدست آمده نشان داد که استفاده از روش آبکاری الکتریکی باعث ایجاد حفره ها و تخلخل های زیادی در سطح نمونه می شود. همچنین، مشخص شد که استفاده از روش اسپاترینگ به طور قابل توجهی موجب افزایش مقاومت به خوردگی و کاهش مقاومت تماسی می گردد.
کلید واژگان: پیل سوختی پلیمری, صفحات دوقطبی فلزی, پوشش دهی, اسپاترینگ, آبکاری الکتریکی}Polymer electrolyte membrane fuel cells have received more attention than other fuel cells because of their advantages such as low operating temperature, high power density and short startup time. One of the most important components of a polymer electrolyte membrane fuel cell is bipolar plate which has various types. Metallic bipolar plates have advantages such as higher strength, lower thickness and lower weight than graphite-based composite bipolar plates. Corrosion resistance and interfacial contact resistance of metallic bipolar plates are some of the challenges of using metallic bipolar plates. For this reason, metallic bipolar plates are coated to increase corrosion resistance and reduce contact resistance. In this study, the properties and morphologies of gold coating on copper and stainless steel substrates were studied by using electroplating and sputtering methods. The surface morphologies of the specimens were investigated by scanning electron microscopy. In addition, interfacial contact resistance tests were used to evaluate contact resistance of coated and uncoated specimens. Finally, corrosion resistances of the specimens were studied using galvanostatic and potentiostatic tests. The results showed that the use of electroplating method produces many holes and pores in the specimen surface. It was also found that using sputtering method significantly resulted in an increase in corrosion resistance and decrease in contact resistance of coated specimens.
Keywords: Fuel Cell, Metallic bipolar plate, coating, Sputtering, Electroplating} -
Dry and Wet Wear Characteristic of TiO2 Thin Film Prepared by Magnetic Sputtering in Ringer SolutionIn this research, a thin film of TiO2 was applied on AZ91D using the method of magnetic sputtering. Microstructure investigations were conducted using field emission scanning electron microscope (FESEM) and X-ray diffraction (XRD). Wear resistance for the coating was investigated using the pin on the disk in the form of dry and in the Ringer's solution. the worn surface of the samples was investigated using scanning electron microscopy (SEM) asfter this test. Meanwhile, the level of hardness and flatness of the surface after coating was investigated using Vickers microhardness tester and roughness tester. Results indicated that the coating was formed uniformly and had the globular morphology and very good coherence with the thickness of 90nm, which is seemingly formed at the interface of the coating and substrate of the MgTi2O5 and Mg2TiO4 spinels. The roughness of the surface decreased as much as 20% by applying the coating. Applying the coating decreased the coefficient of friction and increased wear resistance in both of the environments. Following the application a thin film of TiO2, wear mechanism was transferred from severe abrasive to mild abrasive in the dry environment and cleavage crater in the Ringer's solution.Keywords: Thin film, TiO2, Sputtering, Wear, Spinels}
-
در این تحقیق تاثیر تشکیل پوشش نیترید تیتانیوم با استفاده از روش کند و پاش روی خواص صفحات دو قطبی تیتانیومی مورد استفاده در پیل سوختی پلیمری مورد بررسی قرار گرفت. عملیات پوشش دهی با استفاده از هدف تیتانیوم خالص در اتمسفر گاز آرگون و نیتروژن با خلوص بالا انجام شد و پوشش نیترید تیتانیوم با ضخامت های مختلف با کنترل زمان کند پاش ایجاد گردید. شناسایی فازهای شکل گرفته در پوشش با استفاده از روش اشعه ایکس خراشان (Grazing incident XRD) صورت گرفت. مقاومت به خوردگی پوشش ها، توسط آزمون پلاریزاسیون پتانسیل متغیر در محلول نیم مولار H2SO4 و HF و در دمای C 70 مورد بررسی قرار گرفت. مقاومت تماسی (Interfacial contact resistance) میان نمونه های پوشش دار و لایه نفوذی گاز، توسط روش آزمون تماسی در فشارهای مختلف اندزه گیری گردید. بررسی مقاومت تماسی نمونه ها نشان داد با توجه به شکل گیری پوشش با استوکیومتری TiN، مقاومت تماسی صفحات دو قطبی تیتانیمی با اعمال پوشش TiN و افزایش ضخامت پوشش به مقدار چشمگیری کاهش می یابد. بررسی نتایج پلاریزاسیون تافلی نشان داد که اعمال پوشش TiN منجر به بهبود مقاومت خوردگی صفحات تیتانیومی می گردد و پتانسیل خوردگی از V 214/0- برای تیتانیوم به V 102/0- برای پوشش 600 نانومتری افزایش یافته است و با افزایش ضخامت پوشش، دانسیته جریان خوردگی از µA/cm2 29/6 برای نمونه تیتانیومی به µA/cm2 83/1 برای نمونه حاوی پوشش TiN با ضخامت nm 600 کاهش یافت.کلید واژگان: صفحات دوقطبی, کندو پاش, پوشش نیترید تیتانیوم, مقاومت تماسی, مقاومت خوردگی}The effect of titanium nitride film on the properties of titanium bipolar plates used in polymeric fuel cell was investigated in this research. TiN coatings was deposited on the Ti-grade 1 substrate by using DC-sputtering method. Pure titanium was used as target and coating deposition was done in argon and nitrogen atmosphere. Different TiN thickness was developed by changing sputtering time. The interfacial contact resistance (ICR) between coated titanium plates and gas diffusion layer was determined by contact testing method. The electrochemical corrosion behavior of the titanium and coated samples was monitored by potentiodynamic polarization technique in 0.5 M H2SO4 at 70 ˚C. Phase identification, morphology, and microstructure of coatings were investigated by grazing incident XRD (GIXRD) and FE-SEM. The results show that TiN was developed on the Ti- plate as a major phase after coating process. Minimum value of ICR was 33 mΩ.cm2 for 0.6 µm TiN thickness which indicates that oxide layer does not form on the TiN surface. Tafel curves show that corrosion potential was promoted from -0.214 V to -0.102 V and corrosion current density decrease from 6.29 µA/cm2 to 1.83 µA/cm2 by increasing TiN thickness.Keywords: Fuel cell, Bipolar plates, Sputtering, Titanium nitride coating, ICR}
-
In industrial applications, most materials are exposed to wear and friction because multiple conditions are used. However, the tribological properties of these materials can be improved with different techniques. One such technique that improves the frictional property of a surface is the use of self-lubricating coatings. In this study, multicomponent coatings of nominal composition Cu-Ni3Al-MoS2 have been sputter from the target using the best sputtering condition to get a good morphology and microstructure of the coating. The morphology and micro structure of the coatings were characterized by X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM) and energy depressive spectroscopy (EDS). The measured microhardness of this coating was 380 HV over 25 g load. Tribological properties of Cu-Ni3Al-MoS2 coatings were investigated using ball-on-disk (BOD) tribometer at atmospheric condition of room temperature. These composite coatings showed a good morphology and adhesion of the coating to the substrate, also it had acceptable friction coefficient and higher wear resistance, because it has hard matrix containing Cu-Ni3Al and MoS2 Nano particles.Keywords: Cu, Ni3Al, MoS2, sputtering, tribological properties}
-
هدف اصلی این تحقیق، بررسی خواص ساختاری و مغناطیسی لایه نازک FePt نسبت به دمای بازپخت است. لایه های نازک FePt به روش کندوپاش روی زیرلایه شیشه ای با نرخ nm/min 6و با توان W 110 رسوب داده شدند. خلا اولیه محفظه کندوپاش برابر Torr 7-10 5 و فشار گاز آرگون mTorr 3 در نظر گرفته شد. پس از تهیه نمونه ها، در محدوده 650-450 به مدت 30 دقیقه بازپخت شدند. شناسایی فازی لایه نازک با استفاده از پراش اشعه ایکس(XRD)، انجام شد. با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی(SEM) اندازه و یکنواختی دانه ها بررسی و مقایسه گردید. مورفولوژی و زبری سطح با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) تعیین شد. همچنین خواص مغناطیسی لایه های نازک بازپخت شده با استفاده از مغناطومتر ارتعاشی(VSM) بررسی شد. نتایج XRD نشان داد که با بازپخت لایه نازک در دمای 450 فاز FePtبا شبکه منظم L10 تشکیل و با افزایش دمای بازپخت پارامتر نظم(S) افزایش یافته و در دمای بازپخت 650 به بیشترین مقدار خود می رسد. همچنین نتایج SEM و AFM نشان داد که علاوه بر افزایش اندازه دانه، زبری سطح نیز در دماهای بالاتر افزایش یافته و در دمای بازپخت 650 ساختار سوزنی شکل در داخل یک ساختار صفحه ای ایجاد می شود. خواص مغناطیسی لایه های نازک توسط رسم منحنی های پسماند ارزیابی شد. با بازپخت لایه های نازک FePt در دمای 550 به دلیل افزایش پارامتر نظم، فاز فرومغناطیس سخت تشکیل شد. اما در دمای 600 بهترین خواص ساختاری و مغناطیسی حاصل شد.
کلید واژگان: لایه نازک, آهن پلاتین, فرومغناطیس, نیروی پسماندزدا}The main goal of this study is to investigate the structural and magnetic properties of FePt thin film with respect to the annealing tempreture. The FePt thin films were deposited by RF magnetron sputtering on Corning glass substrates at a room temperature. Base pressure was kept constant at 2 10-7 Torr. The Ar pressure was mTorr. Thin films was sputtered with an rf power supply at 110 W, yelding a rate of 6. After deposition, samples were annealed in the range of 450-650℃ for 30 min. Phase identification of thin films was performed using X-ray diffraction (XRD). With employing SEM, the size and uniformity of grains were studied. The morphology and surface roughness was also determined using an atomic force microscopy (AFM). Moreover magnetic properties of annealed thin films were evaluated using a vibrating sample magnetometer (VSM). XRD results showed that the ordered FePt structure is formed at 450℃ and with an increase in annealing temperature, ordering parameter were enhanced and at 650℃ reaches at its maximum value. On the other hand surface roughness and grain size increased with increasing temperature. The topography of the film consists of two main kinds of grain: those with a needlelike shape and those in form of platelets. According to the hysteresis loops, hard ferromagnetic FePt phase is formed at 550 ℃ due to high order parameter. However the best structural and magnetic properties were obtained at 650℃.Keywords: Thin films, FePt, Sputtering, ferromagnetic, Coercivity} -
در این مقاله، نحوه ساخت و ارزیابی حسگرهای گاز مبتنی بر لایه نازک اکسید قلع نانوساختار به دو روش تبخیر گرمایی (نوع I) و کند و پاش (نوع II) نسبت به اتانول بررسی شده است. لایه نازک اکسید قلع برروی زیرلایه هایی از ویفر سیلیکن ایجاد و برروی آن ها عملیات حرارتی انجام شد. با استفاده از روش های ساختارسنجی و تحلیل مختلف SEM)، AFM، XRD و (EDS ریزساختار بدنه های نیمه هادی مورد ارزیابی قرار گرفت. تصاویر SEM، وجود دانه بندی یکنواخت با ابعاد نانومتری در هر دو نوع نمونه را نشان داد. مقاومت حسگرها در هوای تمیز و تغییرات گذرای مقاومت آن ها در پاسخ به تغییرات آنی بخار اتانول ppm)3000) مورد اندازه گیری قرار گرفت. پس از پایداری حسگرها، پاسخ 3 برای حسگر نوع I و 18/1 برای حسگر نوع II به دست آمد که بیانگر خواص حسگری بهتر لایه نازک اکسید قلع نانوساختار ایجاد شده به روش تبخیر گرمایی بود. دلیل آن را می توان ناشی از سطح موثر، مکان های جذب و مقاومت بیس لاین بیش تر به واسطه داشتن دانه های ریزتر دانست هرچند به لحاظ زمان پاسخ و بازیابی، عملکرد کندتری داشت.
کلید واژگان: حسگر گاز, اکسید قلع, نانوساختار, تبخیر گرمایی, کند و پاش, اتانول}In this paper، manufacturing and evaluation of ethanol gas sensors based on thin films of nanostructure tin oxide have been investigated. SnO2 thin films were prepared by both thermal evaporation (type I) and sputtering (type II) methods and heat treated on silicon wafer substrates. Scanning electron microscope (SEM)، atomic force microscope (AFM)، X-ray diffraction (XRD) and energy dispersive spectra (EDS) are employed to study the morphology and chemical composition of the semiconductor samples. Nano-scale grain size with homogenous distribution showed in SEM images of both types. Sensors resistance in air and its variation-transient response toward ethanol vapours (3000 ppm) was determinated. The response of the stable sensors was obtained 3 and 1. 18 for type I and type II، respectively. That showes thin film of nanostructure tin oxide by thermal evaporation (type I) has better sensitivity than the other. More effective surface، adsorption sites and base-line resistance due to the more fine grain size in type I nanostructure، are its important reasons. however، it is slow due extensive rise time and fall time.Keywords: sensor, Tin oxide, Nanostructure, Thermal evaporation, Sputtering, Ethanol} -
In this paper, Ag-doped ZnS thin films were deposited on glass substrates using radio frequency (RF) magnetron sputtering at room temperature. In order to optimization thin films, the samples deposited at various sputtering pressures (1.5×10-3 - 1×10-1 torr). The structure and surface morphology of the films were characterized by X-ray diffraction (XRD), atomic force microscopy (AFM) and scanning electron microscopy (SEM). Atomic absorption spectroscopy (AAS) and X-Ray microprobe analyzer (XPMA) were also employed. Findings showed that high-quality ZnS:Ag thin films with uniform morphology and chemical composition have been grown at 5×10-2 torr.Keywords: Sputtering, Thin film, Ag, doped ZnS, Characterization}
-
علاقه به تحقیق و پژوهش در زمینه پلاسماهای غباری که رشته جدیدی در فیزیک پلاسما می-باشد با توسعه صنعت میکروالکترونیک رشد چشمگیری داشته است. ذرات غبار که تا کنون به عنوان آلودگی در نظر گرفته می شدند، امروزه در فنآوری های لایه گذاری برای صنایع میکروالکترونیک، اپتیک، الکترواپتیک استفاده می شوند. در اینجا ما روی پوشش با ذرات غبار از طریق ایجاد لایه نازک ZnO:Al کار می کنیم. ذرات غبار Zn وAl می باشند. لایه های نازک با روش ترکیبی کندوپاش ساده Zn و Al و اکسیداسیون حرارتی آنها ساخته شدند. لایه های نازک ZnO:Al با توجه به خواص فیزیکی ای که دارند شفافیت بالایی در نور مرئی و مقاومت الکتریکی پایینی دارند. خواص اپتیکی و الکتریکی لایه های مذکور توسط XRD، RBS، پروب چهار نقطه ای و طیف نمایی نوری در ناحیه طول موج مرئی بررسی شدند. مقدار مقاومت در بهترین حالت برابر با Ω.Cm 3-10 × 0.905 و در طول موج nm 800-300 میزان عبوردهی نور 85 درصد بدست آمد.
کلید واژگان: اکسیداسیون حرارتی, ZnO:Al, خواص الکتریکی و اپتیکی}The int erest in dusty plasma research, which is a relatively new field in plasma physics, has increased with the development of m icroelectronics. The dust particles appear as pollutant in this industrial processing. Recent ly, however, they are seen from a different point of views – they can be useful in coatings various technologies for m icroelectronic, optic, electro-opt ic industrial. In this investigation we have concent rated on coating of dust particles by ZnO:Al thin film. D ust particles in the investigation are Zn, Al. Thin films are fabrication by Combination of Plasma Sputtering Zn, Al and T hermal Oxidation. T hese thin films have special physical properties, such as large bond strength, ZnO thin films exhibit high transparency in visible region and low electrical resistively. T he electrical and optical properties of ZnO:Al thin films were evaluated by XRD, RBS, the linear four point probe method and visible spectroscopy. T he best electrical properties obtain and the transparent in 300-800 nm wavelengths is 85 percent.Keywords: Sputtering, Thermal Oxidation, Optical, Electrical Properties} -
بررسی برروی پارامترهای فشار عملیاتی و توان فرایند کندوپاش فلز مولیبدنیوم برروی مقاومت لایه ی نازک ایجاد شده برروی زیرلایه ی شیشه انجام گرفته و مقدار مناسب پارامترهای لایه نشانی تعیین شده اند. آرایه ی نانونوک های سیلیکانی از پیش ساخته شده طی فرایندی چند مرحله ای، در محیط خلا قرار داده شده است و به منظور کاهش تابع کار گسیل کننده ها، لایه ای از فلز مولیبدنیوم به روش کند و پاش و بر اساس پارامترهای تعیین شده در مرحله ی قبل بر روی نوک ها نشانده شده است. مشخصات هندسی گسیل کننده ها به کمک تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) قبل و بعد از لایه نشانی مولیبدنیوم ارائه شده است. نشان داده شده است که استفاده از پوشش مولیبدنیومی امکان مشاهده ی پدید ه ی گسیل میدان را در ولتاژهای کمتر از 1000 ولت و در فواصل بین آند و کاتد بالای 1 میکرومتر فراهم می آورد. منحنی جریان-ولتاژ گسیل الکترون ها در فشار کمتر از Torr7-10×3 اندازه گیری و رسم شده است.
کلید واژگان: کندوپاش, لایه نازک مولیبدن, آرایه ی نانونوک های سیلیکانی, اندازه گیری گسیل الکترونی}Molybdenum (Mo) thin films are deposited using RF sputtering technique, and the effect of operational pressure and RF power on resistivity of the films are investigated. Point of minimum resistivity is determined, and is used to sputter a thin layer of Mo on top of a pre-fabricated, oxidation sharpened, silicon field emitter array (Si-FEA). Geometric and field emission properties of the arrays are investigated before and after deposition of 100nm Mo thin film. I-V characteristics of the FEAs are measured and presented. It is shown that the Mo-covered array shows better emission properties and lower turn-on voltage (<190V), compared to the simple Si-FEA.Keywords: Sputtering, Molybdenum Thin Film s, Field Emission Arra ys, S ilicon Field Emitter Arrays} -
در این پژوهش، ابتدا لایه های نازک نیکل به روش RF اسپاترینگ بر روی زیرلایه لام آزمایشگاهی تشکیل گردید و سپس لایه های اسپاتر شده، در دماهای مختلف در محیط اکسیژن پخت شدند. تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) نوع ساختار را به صورت نانومیله های به قطر 35 نانومتر نشان می دهند. با بررسی خواص اپتیکی، محدوده گاف انرژی بینeV 87/3-77/3 مشخص شده؛ همچنین زاویه تماس آب با سطح نمونه های پخت نشده، در حدودo110 وبرای نمونه های پخت شده در دماهای مختلف از حالت آب گریزی به حالت آب دوستی تغییر نمودند. تصاویر میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) نشان می دهد که در دمایC °500، میانگین مربع زبری سطح (RMS)، نمونه پخت شده حدود nm9می باشد.
کلید واژگان: اسپاترینگ, آب دوستی, کشش سطحی, انرژی گاف}In this research, first by using RF sputtering method, nickel thin films were deposited on the glass lame substrate and then they annealed at different temperatures in pure oxygen environment. Images of scanning electron microscopy (SEM) showed that nanorod shape structure are formed with average diameter of about 35 nm. The annealed films have had band gap energy in the range 3.77-3.87 eV by using optical measurements. In addition, water contact angle of about 110° was measured before annealing and it changed from hydrophobicity to hydrophylicity state in different temperatures. Images of atomic force microscopy (AFM) showed that RMS surface roughness of these specimen annealed at 〖500〗^oC is about 9 nm.Keywords: Sputtering, Hydrophilicity, Surface Tension. Band Gap} -
بررسی خواص و مورفولوژی پوشش نانولایه طلا ایجاد شده بر روی صفحات دوقطبی در پیل سوختی به روش اسپاترینگفصلنامه نانو مواد، پیاپی 12 (زمستان 1391)، صص 259 -267در این پژوهش، بررسی خواص و مورفولوژی پوشش نانولایه طلا ایجاد شده بر روی صفحات دوقطبی در پیل سوختی با استفاده از روش اسپاترینگ انجام شد. بررسی مورفولوژی و ریزساختار سطحی نمونه ها به ترتیب با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) و میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) صورت گرفت. همچنین به منظور ارزیابی میزان هدایت الکتریکی نمونه های پوشش داده شده، مقاومت الکتریکی آنها اندازه گیری شد. نتایج حاصل از میکروسکوپ الکترونی روبشی حاکی از تشکیل نانولایه طلا با موفولوژی مناسب و هموار بر روی سطح می باشد. همچنین با استناد به نتایج تست مقاومت الکتریکی، مقاومت نمونه های پوشش داده شده با لایه ای به ضخامت nm 20 از طلا در حدود نصف مقاومت نمونه بدون پوشش بوده و این مساله نشان دهنده افزایش چشمگیری در هدایت الکتریکی نمونه های پوشش داده شده می باشد.کلید واژگان: نانولایه طلا, پوشش دهی, هدایت الکتریکی, اسپاترینگ, مورفولوژی}In this research, the properties and morphology development of gold nano-layer coat builds on fuel cell bipolar plates via Sputtering method were investigated. Morphology and surface microstructure of samples were investigated by scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy. Also in order to evaluate the electrical conductivity of the coated samples, electrical resistance were measured. Scanning electron microscopy results implies the formation of the gold nano-layer with appropriate and smooth morphology on surface. Also, according to test results of electrical resistance, resistance of samples coated with 20 nm thick layer of gold was about half the resistance of uncoated samples, And this issue represents a significant increase in the electrical conductivity of the coated samples.Keywords: Gold nano-layer, Coating, Electrical conductivity, Sputtering, Morphology}
-
یونهای هلیوم” “با انرژی KeV 2 مورد مطالعه قرار گرفته است. معلوم شده است که تحت بمباران غلظت Al در سطح، تا رسیدن به یک حالت پایا به آهستگی کاهش می یابد و غلظت های Mn و Pd افزایش می یابند. سپس سطح غنی شده از Mn حرارت داده شده و مشخص شده که در درجه حرارت های بالاتر ازK 575 هیچ Mn روی سطح وجود ندارد. درپایان، تغییرات نسبت غلظت سطحی با درجه حرارت اندازه گیری شده است.
کلید واژگان: شبه بلور, اسپاترینگ, Al, Pd, Mn تکنیک, LEIS}In this paper, the effect of sputtering on the surface composition of an Al-Pd-Mn quasicrystal has been studied using 2KeV. It was found that the surface concentration of Al decreases smoothly to a steady state under bombardment and the Mn and Pd concentrations increase. The surface enriched in Mn was annealed and it was found that there was no detectable surface Mn at temperatures higher than 575K. Finaly, the variation of the ratio of the surface concentration with changes in temperature was measured.Keywords: Quasicrystal, Sputtering, Al, Pd, Mn, LEIS Technique} -
پوشش های الکترولس نیکل- فسفر در شرایط عملیات حرارتی شده، از سختی و مقاومت سایشی نسبتا بالایی برخوردار می باشند. عملیات حرارتی متداول این پوشش ها (1 ساعت در oC400 تحت اتمسفر خنثی) بیشتر موجب کریستاله شدن کامل آنها می گردد. در تحقیق حاضر پوشش های نیکل- فسفر علاوه بر عملیات حرارتی متداول، تحت عملیات پلاسمایی نیز واقع شدند. ضخامت پوشش ها 5 و 10 میکرون، دمای عملیات 400 و 600 درجه سانتیگراد و زمان آن 1 و 5 ساعت انتخاب شد. ضخامت، ساختار و ترکیب پوشش ها در دو حالت عملیات حرارتی شده (HT) و عملیات پلاسمایی شده (PT) از طریق آزمون های متالوگرافی، XRD و EDS مورد مقایسه قرار گرفت. نتایج نشان داد که ضخامت پوشش ها و نیز شدت و پهنای متوسط پیک های حاصل از تفرق فازها در دو نوع پوشش، متفاوت است. این اختلاف ها به پدیده کندوپاش، رفتار استحاله ای و کرنش داخلی متفاوت پوشش ها نسبت داده شد. همچنین مشخص شد که تحت شرایط پلاسمایی، امکان کاهش فسفر و در نتیجه تغییر ترکیب شیمیایی پوشش وجود دارد.
کلید واژگان: پوشش های نیکل, فسفر, عملیات پلاسمایی, استحاله فازی, کندوپاش, شدت تفرق}Heat treated electroless Ni-P coatings have high hardness and wear resistance. Traditional heat treatment (1 hr at 400 oC under neutral atmosphere), results in full crystallization of electroless Ni-P coatings. In the present research, electroless Ni-P coatings were treated under conventional as well as plasma conditions. Coating thickness was 5 and 10 micron. Temperature rates and time of the processes were decided to be at 400 oC and 600 oC for 1 and 5 hours, respectively. Thickness, structure, and composition of the coatings were evaluated by optical microscopy, XRD and EDS methods in both heat treatment (HT) and plasma treatment (PT) conditions. It was shown that coating thickness as well as its XRD spectrum (i.e. intensity and breadth of peaks) was different. These disparities were related to sputtering phenomenon, special transformation behaviour, and residual strain in the plasma treated electroless Ni-P coatings. It was also found that chemical composition of the coatings could be altered during plasma processKeywords: Ni, P coating, Plasma treatment, Phase transformation, Sputtering, Diffraction intensity}
- نتایج بر اساس تاریخ انتشار مرتب شده‌اند.
- کلیدواژه مورد نظر شما تنها در فیلد کلیدواژگان مقالات جستجو شده‌است. به منظور حذف نتایج غیر مرتبط، جستجو تنها در مقالات مجلاتی انجام شده که با مجله ماخذ هم موضوع هستند.
- در صورتی که می‌خواهید جستجو را در همه موضوعات و با شرایط دیگر تکرار کنید به صفحه جستجوی پیشرفته مجلات مراجعه کنید.
©2000-2024 magiran.com All Rights Reserved.