مطالعه تحلیلی تاثیر پوشش دولایه معدنی و آلی اطراف نانوذرات اکسید آهن در کنتراست تصویربرداری تشدید مغناطیسی

در سال های اخیر، نانوذرات اکسید آهن به منظور تقویت کنتراست تصویربرداری تشدید مغناطیسی (MRI) در تشخیص طیف وسیعی از بیماری ها به کاررفته اند. نکته مهم در کاربرد این نانوذرات، استفاده از پوشش آلی یا معدنی اطراف نانوذرات جهت ایجاد زیست سازگاری و جلوگیری از سمیت آن ها است. هدف از این مطالعه بررسی تاثیر پوشش دولایه معدنی (آلومینوسیلیکات) و آلی (پلی اتیلن گلیکول) اطراف نانوذرات اکسید آهن در کنتراست تصویربرداری تشدید مغناطیسی است.

 نانو کامپوزیت اکسید آهن- آلومینوسیلیکات- پلی اتیلن گلیکول با اندازه 200-170 نانومتر تهیه شد. تصویربرداری تشدید مغناطیسی برای غلظت های مختلف نانو کامپوزیت با استفاده از زمان های تکرار پالس یکسان و زمان های اکوی متفاوت انجام گردید. میانگین شدت سیگنال ها برحسب غلظت های کاربردی اندازه گیری و منحنی های زمان های آسایش اسپین- اسپین رسم شد. مقدار آسایش دهی عرضی با استفاده از شیب منحنی نرخ های آسایش اسپین- اسپین به ازای غلظت به دست آمد.

 کاهش شدت سیگنال به ازای افزایش زمان اکو برای تمام غلظت ها مشاهده شد. زمان آسایش اسپین- اسپین نیز با افزایش غلظت نانو کامپوزیت کاهش یافت. مقدار آسایش دهی عرضی که به عنوان پارامتر بیان گر کنتراست در تصویربرداری تشدید مغناطیسی است، s-1.mM-1 73/80 محاسبه شد.

 نانوذرات اکسید آهن با پوشش دولایه آلومینوسیلیکات و پلی اتیلن گلیکول، پتانسیل ایجاد کنتراست منفی در تصاویر تشدید مغناطیسی را به دلیل ساختار متخلخل پوشش معدنی آلومینوسیلیکات و پتانسیل استفاده در دارورسانی را با توجه به پوشش پلیمر آلی پلی اتیلن گلیکول فراهم می کنند.