بررسی نظری تاثیر فاصله چشمه تا زیرلایه بر لایه نشانی مس به روش تبخیر حرارتی

لایه های نازک مس به طور گسترده در حسگرهای امنیتی، حسگرهای پزشکی، صفحات خورشیدی، لیزرهای قفل شده مد، درمان سرطان و... کاربرد دارند. روش تبخیر حرارتی روش مناسبی برای ایجاد لایه های نازک مس است. فاصله بین چشمه مس و زیرلایه پارامتر مهمی است که تاکنون مورد بررسی قرار نگرفته است. بنابراین در این مقاله تاثیر این کمیت بر فرایند ایجاد لایه نازک مس با روش تبخیر حرارتی به صورت نظری مورد بررسی قرار گرفته است. نتایج نشان داد که فشار بخار مس بر سطح زیرلایه، نرخ لایه نشانی و ضخامت لایه نازک با افزایش این فاصله کاهش می یابد. در حالی که میزان یکنواختی ضخامت لایه نازک با افزایش این فاصله بهبود می یابد. با افزایش فاصله از cm13 تا cm33 نرخ لایه نشانی از nm/s57/5 تا nm/s12/1 کاهش و پهنای تابع ضخامت لایه از nm56 تا nm120 افزایش می یابد. همچنین تابع وابستگی پهنای ضخامت و نرخ لایه-نشانی لایه نازک به فاصله چشمه تا سطح زیرلایه ارایه شده است تا فاصله مناسب با توجه به کاربرد لایه نازک انتخاب شود.