کنترل مورفولوژی لایه نازک نانوساختار PbS ترسیب شده به روش شیمیایی از طریق مکانیسم رسوب

لایه‌های نازک سولفید سرب به روش رسوب حمام شیمیای (CBD) با استفاده از نیترات سرب، تیواوره و هیدروکسید سدیم با زمانهای رسوب متفاوت (بین 30 تا 150 دقیقه) روی زیرلایه شیشه رشد داده شد. میکروساختار و مورفولوژی لایه‌های نازک با استفاده از الگوی پراش اشعه X، میکروسکوپ الکترونی روبشی نشر میدانی و میکروسکوپ نیروی اتمی بررسی شد. نتایج نشان می‌دهد که زمان رسوب یک پارامتر مهم در تعیین مکانیسم غالب رسوب و در نتیجه ویژگی های لایه نازک است. در طی واکنش رسوب، مکانیسم غالب رسوب از مکانیسم خوشه‌ای (cluster) به یون به یون تغییر می‌کند. بنابراین خصوصیات لایه نازک مانند شکل، اندازه، زبری و جهت‌گیری ترجیحی کاملا تغییر می‌کند.