بررسی پارامتر های مختلف در پرداخت کاری با ذرات ساینده AIO2و SiCبا استفاده از میدان مغناطیسی در مقیاس نانو

پرداخت کاری با استفاده ازمیدان مغناطیسی در مقیاس نانو (NMAF)،روشی جدید برای پرداختکاری سطح با زبری در حد نانو بصورت فرآیند مکانیکی بوده و از طریق سایش پودر ذرات ساینده به عنوان ابزار، انجام می گیرد. نیروی مورد نیاز برای حرکت ذرات ساینده توسط میدان مغناطیسی که خود دارای حرکت نسبی با قطعه کار است تامین می شود. این روش برای پرداخت قطعات فلزی غیرمغناطیسی و یا قطعات غیر فلزی قابل استفاده است. از ویژگی های خاص این روش کاهش تنش های حرارتی به قطعه کار و نداشتن محدودیت در پرداختکاری سطوحی از قطعه است که به دلیل شکل هندسی، توانایی انجام کار ابزار های معمول برروی آنها دشوار است. مانند پرداختکاری سوپر آلیاژها و فلزات سخت و همچنین برای سطوحی با فرم های خاص که نمی توان با روش های دیگر به میزان صافی سطح قابل قبول رسید. دراین مقاله با استفاده از مکانیزم نانو پرداختکاری، پرداختکاری سطوح خارجی استوانه ایی از جنس سوپرآلیاژ اینکونل بررسی شده ، به صورتیکه کیفیت سطح در مقیاس نانو ارتقاء می یابد. برای ایجاد میدان مغناطسیی از آهنرباهای متغیر با قابلیت تنظیم شدت جریان میدان مغناطیسی استفاده شده است.در آزمایشات انجام شده افزایش سرعت دورانی، فاصله ی کاری آهنربا از سطح قطعه کار ،مقداراستفاده از ذرات ساینده از عوامل تاثیر گذار و مورد بررسی هستند. در این تحقیق از ذرات ساینده آلومینیوم اکسید و سیلیکون کارباید و تلفیق آنها استفاده شده است.