بررسی جذب یک سویه فلوئور بر روی گرافن به روش دینامیک مولکولی
نویسنده:
نوع مقاله:
مقاله پژوهشی/اصیل (دارای رتبه معتبر)
چکیده:
جذب فلویور بر گرافن سبب تنظیم شکاف انرژی و در نتیجه گرافن آلاییده به فلویور یکی از ترکیباتی است که موجب کاربردی شدن گرافن در صنایع الکترونیک می شود. در این مقاله نقش دما و غلظت اتم های فلویور بر فرآیند جذب یک سویه صفحه گرافن و دو سویه آن بررسی شده است. نتایج این مطالعه نشان می دهند که تعداد اتم های فلویور که جذب صفحه گرافن می شوند با افزایش غلظت گاز فلویور تا مقدار معینی افزایش می یابند و سپس با افزایش بیشتر غلظت ثابت باقی می-مانند. همچنین با افزایش دما تا حدی که ساختار گرافن مختل نشود، سبب افزایش تعداد پیوندهای C-F می شود. همچنین مشاهده شد که چیدمان فلویورهای جذب شده چنان است که از افزایش اختلال در توازن بین دو زیر شبکه گرافن جلوگیری شود.
کلیدواژگان:
زبان:
فارسی
صفحات:
124 تا 138
لینک کوتاه:
magiran.com/p2404067
دانلود و مطالعه متن این مقاله با یکی از روشهای زیر امکان پذیر است:
اشتراک شخصی
با عضویت و پرداخت آنلاین حق اشتراک یکساله به مبلغ 1,390,000ريال میتوانید 70 عنوان مطلب دانلود کنید!
اشتراک سازمانی
به کتابخانه دانشگاه یا محل کار خود پیشنهاد کنید تا اشتراک سازمانی این پایگاه را برای دسترسی نامحدود همه کاربران به متن مطالب تهیه نمایند!
توجه!
- حق عضویت دریافتی صرف حمایت از نشریات عضو و نگهداری، تکمیل و توسعه مگیران میشود.
- پرداخت حق اشتراک و دانلود مقالات اجازه بازنشر آن در سایر رسانههای چاپی و دیجیتال را به کاربر نمیدهد.
In order to view content subscription is required
Personal subscription
Subscribe magiran.com for 70 € euros via PayPal and download 70 articles during a year.
Organization subscription
Please contact us to subscribe your university or library for unlimited access!