تهیه فیلم نازک اکسید روی با روش کندوپاش پلاسمایی و مطالعه تغییرات خواص الکتریکی، ساختاری و مورفولوژی آن با دوزهای مختلف تابش گاما
فیلم های نازک نانوساختاری اکسید روی با ضخامت حدود nm 150 با روش اسپاترینگ پلاسمایی برای سه دمای مختلف زیرلایه استیلی و درصدهای مختلف ترکیب اکسیژن و گاز کاری آرگون تهیه گردیده و نمونه های مختلف تحت تابش پرتوهای گاما Co60 قرار داده شدند. تغییرات در طیف پراش پرتو اشعه X (XRD)، مقاومت ویژه و به تبع آن هدایت الکتریکی و مورفولوژی سطح برای دوزهای مختلف پرتو گاما از Gy 50 تا Gy 2000 بررسی و مورد تحقیق قرار گرفته اند. با اینکه وابستگی خصوصیات الکتریکی و مورفولوژی فیلم های نازک با میزان دوز تابشی گاما، درصد ترکیب های گاز کاری و دماهای زیرلایه بسیار پیچیده است با این حال برای بعضی از دوزهای گاما تغییرات در فاز ساختاری، مقاومت ویژه و اندازه نانودانه های نشانده شده روی زیرلایه استیل به وضوح قابل ملاحظه هستند.
پرداخت حق اشتراک به معنای پذیرش "شرایط خدمات" پایگاه مگیران از سوی شماست.
اگر عضو مگیران هستید:
اگر مقاله ای از شما در مگیران نمایه شده، برای استفاده از اعتبار اهدایی سامانه نویسندگان با ایمیل منتشرشده ثبت نام کنید. ثبت نام
- حق عضویت دریافتی صرف حمایت از نشریات عضو و نگهداری، تکمیل و توسعه مگیران میشود.
- پرداخت حق اشتراک و دانلود مقالات اجازه بازنشر آن در سایر رسانههای چاپی و دیجیتال را به کاربر نمیدهد.