تعدیل تنش شوری با محلول پاشی نانوسیلیکون در رز باغی مینیاتوری (Rosa chinensis Jacq.)

به منظور بررسی اثرات محلول پاشی نانوسیلیکون در تعدیل تنش شوری در رز باغی مینیاتوری رقم ساناز آزمایشی براساس فاکتوریل در قالب طرح کاملا تصادفی در سه تکرار در گلخانه دانشگاه مراغه در سال زراعی 1399 اجرا شد. دراین پژوهش برای بهبود صفات کمی، کیفی و بیوشیمیایی گل رز باغی در شرایط شور (صفر، 25 و 50 میلی مولار)، از محلول پاشی نانوسیلیکون در غلظت های مختلف (صفر، 50، 100، 150 و 200 میلی گرم در لیتر) استفاده شد. نتایج نشان داد شوری 50 میلی مولار در تمامی فاکتورهای اندازه گیری شده باعث کاهش شدید این پارامترها نسبت به گیاهان شاهد شد و کمترین مقدار هر پارامتر در غلظت 50 میلی مولار شوری حاصل شد. درحالیکه محلول پاشی نانوسلیکون تحت شوری 50 میلی مولار، باعث محافظت از شاخص کلروفیل، و منجر به افزایش تعداد برگ (2/64 درصد)، فلورسانس حداکثر (4/55 درصد) و فلورسانس متغیر (بیش از سه برابر) گردید. همچنین محلول‎پاشی منجر به کاهش میزان فلورسانس حداقل (44 درصد) در شرایط شوری 50 میلی مولار گردید. نانوسیلیکون با تحریک رشد و افزایش فعالیت آنزیم های آنتی اکسیدانی باعث کاهش پراکسیداسیون لیپیدها، میزان مالون دی آلدیید و در نهایت باعث کاهش تنش اکسیداتیو در سلول های گیاهی شد. محلول پاشی نانوسیلیکون در شرایط تنش باعث افزایش میزان سنتز پرولین و کاهش آسیب اکسیداتیو به پروتیین شد. به نظر می رسد با توجه به نتایج حاصل از پژوهش حاضر، محلول پاشی نانوسیلیکون به ویژه در غلظت 200 میلی گرم در لیتر تحت شرایط تنش شوری در گل رز قابل توصیه است.