اثر محلول پاشی نانوسیلیکون بر صفات مورفولوژیکی، عملکرد و تعدیل تنش خشکی در گیاه کینوا (Chenopodium quinoa L.)

پژوهش حاضر با هدف بررسی اثر نانوسیلیکون برعملکرد و کاهش اثر ناشی از تنش آبی در گیاه کینوا اجراء شد. آزمایش به صورت کرت های خرد شده بر پایه بلوک های کامل تصادفی در سه تکرار در مرکز تحقیقات و آموزش کشاورزی و منابع طبیعی فارس اجراء گردید. تیمارها شامل رژیم های آبیاری در چهار دور 7، 14، 21 و 28 روز و محلول پاشی نانوسیلیکون در سطوح صفر، 30 و 60 میلی گرم در لیتر درنظر گرفته شد. اعمال تنش رطوبتی متوسط (دور آبیاری 21 روز) و شدید (دور آبیاری 28 روز) در مقایسه با عدم تنش (دور آبیاری 7 روز) سبب کاهش 93/5 و 65/24 درصد در طول پانیکول، 77/8 و 81/27 درصد در عرض پانیکول، 14/5 و 44/29 درصد در تعداد پانیکول، 05/12 و 87/23 درصد در وزن کل اندام هوایی، 73/24 و 95/54 درصد در عملکرد دانه، 11/26 و 94/55 درصد در وزن هزار دانه و 53/14 و 16/41 درصد در شاخص برداشت گیاه گردید. تنش های رطوبتی فوق سبب 125 و 84/78 درصد افزایش در بهره وری مصرف آب شد. همچنین محلول پاشی نانوسیلیکون تاثیر معنی-داری بر شاخص های رشد گیاه کینوا دارد بطوری که حداکثر ارتفاع گیاه، طول, عرض و تعداد پانیکول، وزن کل اندام هوایی، عملکرد دانه و بهره وری مصرف آب در محلول پاشی نانوسیلیکون با غلظت 30 میلی گرم در لیتر مشاهده گردید. محلول پاشی نانوسیلیکون با غلظت 30 میلی گرم در لیتر سبب پایین آمدن اثرات منفی تنش های رطوبتی در شرایط خشکی (دور آبیاری 21 و 28 روز) در گیاه کینوا می گردد.